Canon, geçtiğimiz yıl tanıttığı yeni nano baskı litografi cihazını yakın zamanda müşterilerinin beğenisine sunmak için gün sayıyor. Yeni teknik, mevcut litografi tekniklerine göre değerli avantajlara sahip olacağı gündemini koruyor.
Geçtiğimiz yıl Canon, ASML’nin ultraviyole (EUV) ve gelişmiş derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarıyla rekabet edebilecek ilk nanoimprint litografi (NIL) aracını tanıttı. Financial Times’da yer alan habere göre şirket, bu hafta müşterilerinin ilk NIL makinesini bu yıl veya gelecek yıl teslim almaya hazırlandıklarını ancak bunun deneme çalışmaları için kullanılacağını duyurdu.
Canon’un EUV Cihazlara Göre %90 Daha Az Güç Tüketmesi Dikkat Çekiyor!
Nanoprint litografi tekniği ile klasik litografi tekniklerinde gravür yerine kalıp üzerine damgalanarak baskı yapmak mümkündür. Şirketin iddiasına göre yeni teknik, AMSL’nin EUV makinelere göre %90 daha az güç tükettiğini ortaya koyuyor.
Canon firmasının Optik Operasyonlar lideri Hiroaki Takeishi, Financial Times’a yaptığı açıklamada, Canon’un bu makineleri 2024 ve 2025 yıllarında sevk etmeye başlayacağını söyledi. Bu benzersiz teknolojinin en dikkat çekici özelliklerinden birinin, kolay, düşük seviyeli optiklerin oluşturulmasına olanak sağlaması olduğunu görüyoruz. -maliyetli, son teknoloji çipler.
Nanobaskı Litografisi Nasıldır?
Canon’un 15 yılı aşkın bir süredir geliştirmekte olduğu nanobaskı litografi teknolojisinin, çip tasarımlarını doğrudan silikon levhaların üzerine damgalayarak çip üretimine yeni bir yaklaşım sunduğunu deneyimleyeceksiniz. Aynı zamanda bu yenilikçi yöntem, lazerlere dayalı klasik DUV ve EUV litografi teknolojilerine zıt bir yaklaşım sunuyor ve önemli ölçüde daha ucuz ve güç açısından daha verimli olmayı vaat ediyor. Ayrıca şirket, NIL’in 5 nm üretim sürecine eşdeğer çipler oluşturmak için kullanılabileceğinin ve gelecekte 2 nm düzeyine inilebileceğinin altını çiziyor.
Canon, nanoprint litografi makineleri yerine DUV ve EUV araçlarıyla birlikte çalışmayı hedeflediğini söylüyor. NIL cihazlarının mantık çipleri için olmasa da 3D NAND çipleri yapmak için kullanılabileceğini belirtiyor.
Canon Device’ın başarısı şüphe uyandırıyor
Son olarak, Canon’un son teknoloji üretim araçları pazarına girişi, ASML’nin tartışmasız litografi lideri olduğu mevcut durumu kesinlikle değiştirme fırsatına sahip olabilir. Ancak NIL, DUV ve EUV ile uyumlu olmadığından mevcut tasarımlara uygulanmasında zorluklar yaşanmaktadır. Bu arada, yalnızca nanobaskı litografisine dayalı bir üretim süreci geliştirmenin mümkün olup olmadığı belirsizliğini koruyor.
Canon’un endüstri analistlerinin şüpheyle yaklaştığı nanoimprint litografisinin başarılı olup olmayacağını zaman gösterecek. Konuyla ilgili görüşünü dile getiren araştırma şirketi Radio Free Mobile’ın lideri Richard Windsor, şüphelerini dile getiren açıklamalarda bulunarak, Nanobaskı teknolojisi üstün bir teknoloji olsaydı şimdiye kadar operasyonel ve hacimsel olarak piyasaya sürüleceğini düşünüyorum.
